Gate Voltage Adjusting PbS‐I Quantum‐Dot‐Sensitized InGaZnO Hybrid Phototransistor with High‐Sensitivity

材料科学 响应度 光电子学 量子点 光电探测器 光电二极管 灵敏度(控制系统) 活动层 图层(电子) 纳米技术 薄膜晶体管 电子工程 工程类
作者
Cong Zhang,Xingtian Yin,Guojiang Qian,Zi Sang,Yawei Yang,Wenxiu Que
出处
期刊:Advanced Functional Materials [Wiley]
卷期号:34 (4) 被引量:33
标识
DOI:10.1002/adfm.202308897
摘要

Abstract PbS QDs/a‐IGZO based sensitized photo field‐effect transistors are promising candidate for next‐generation near‐infrared photodetectors due to their ultra‐high sensitivity, gate tunability, and ease of integration. However, the reported PbS QDs/a‐IGZO based devices are all dependent on the solid‐state ligand exchange, and are troubled by problems such as poor repeatability, poor air stability, and negative influence on the transfer characteristic curve. In this article, for the first time, optimized high‐quality PbI 2 capped PbS QDs films prepared by the solution‐phase ligand exchange are applied to PbS QDs/a‐IGZO sensitized Photo‐FETs. The device not only gets rid of the tedious layer‐by‐layer deposition, but also exhibits a detectivity of 9.3 × 10 12 Jones, a responsivity of 45.3 A W −1 and a decay time of 24.6 ms (@1064 nm, 1.89 mW cm −2 ). The operation mode of the sensitized device can meet different detection requirements by adjusting gate voltage. Importantly, the responsivity of the unencapsulated PbS‐I based device remained unchanged after six months air exposure, demonstrating excellent air stability.
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