Effect of nitrogen/argon ratios on structures and properties of high-entropy (ZrTiNbV)N nitride films by multi-arc ion plating

腐蚀 氮气 离子镀 摩擦学 陶瓷 微观结构 高熵合金 氮化物 离子 材料科学 冶金 复合材料 化学 薄膜 纳米技术 有机化学 图层(电子)
作者
Dengyi Yan,Wenju Xu,Jingfeng Li,Li Ji,Xiaohong Liu,Lei Shi,Chufeng Sun,Hongxuan Li
出处
期刊:Vacuum [Elsevier BV]
卷期号:225: 113173-113173 被引量:7
标识
DOI:10.1016/j.vacuum.2024.113173
摘要

The multi-arc ion plating technique has been used to prepare high-entropy (ZrTiNbV)N ceramic films. Meanwhile, the effects of different nitrogen/argon ratios of RN on film microstructures, mechanical properties, tribological properties and corrosion resistance are systematically investigated. The high-entropy (ZrTiNbV)N ceramic films with face-centered cubic structure are fabricated when the RN exceeded the critical value of RN = 1. Additionally, the films form dense structures and bond tightly to the substrate under all RN conditions. Compared with other films, the films deposited at RN = 3 have the best mechanical and tribological properties. The hardness up to 31.70 ± 1.67 GPa, and the wear rate is as low as (3.39 ± 0.18) ×10−6 mm3/N−1m−1. Moreover, the corrosion current density in 3.5 wt.% NaCl solution is only 1.119×10−7A/cm2, showing excellent corrosion resistance.
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