Broadband Photodetection of Centimeter-Scale T-Phase Gallium Telluride Grown by Molecular Beam Epitaxy

材料科学 响应度 光探测 光电子学 分子束外延 异质结 外延 石墨烯 半导体 光电探测器 基质(水族馆) 纳米技术 图层(电子) 海洋学 地质学
作者
Yijun Cheng,Jiali Wang,Zhihao He,Mingyi Chen,Xinhao Guo,Bo Deng,Quan‐Lin Ye,Shuwei Li,Huanjun Chen,I. K. Sou,Shuxiang Wu
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:16 (14): 17881-17890 被引量:3
标识
DOI:10.1021/acsami.4c00461
摘要

Two-dimensional (2D) semiconductors have recently attracted considerable attention due to their promising applications in future integrated electronic and optoelectronic devices. Large-scale synthesis of high-quality 2D semiconductors is an increasingly essential requirement for practical applications, such as sensing, imaging, and communications. In this work, homogeneous 2D GaTe films on a centimeter scale are epitaxially grown on fluorphlogopite mica substrates by molecular beam epitaxy (MBE). The epitaxial GaTe thin films showed an atomically 2D layered lattice structure with a T phase, which has not been discovered in the GaTe geometric isomer. Furthermore, semiconducting behavior and high mobility above room temperature were found in T-GaTe epitaxial films, which are essential for application in semiconducting devices. The T-GaTe-based photodetectors demonstrated respectable photodetection performance with a responsivity of 13 mA/W and a fast response speed. By introducing monolayer graphene as the substrate, we successfully realized high-quality GaTe/graphene heterostructures. The performance has been significantly improved, such as the responsivity was enhanced more than 20 times. These results highlight a feasible scheme for exploring the crystal phase of 2D GaTe and realizing the controlled growth of GaTe films on large substrates, which could promote the development of broadband, high-performance, and large-scale photodetection applications.

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