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作者
Seiji Mukai,Mitsuru Itoh,M. Watanabe,H. Itoh,Hidenobu Yajima
出处
期刊：Electronics Letters
[Institution of Engineering and Technology]
日期：1987-01-01
卷期号：23 (14): 755-755
被引量：1
摘要
A simplified process for fabricating BH lasers is introduced, where a self-aligned mask for Zn diffusion is formed in situ during crystal growth. The current/light characteristics of the lasers are presented. The lasers are compared with DCPBH lasers.
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