Prominent Verway Transition of Fe3O4 Thin Films Grown on Transferable Hexagonal Boron Nitride

六方氮化硼 六方晶系 材料科学 氮化物 氮化硼 薄膜 纳米技术 结晶学 化学 图层(电子) 石墨烯 有机化学
作者
Shingo Genchi,Ai I. Osaka,Azusa N. Hattori,Kenji Watanabe,Takashi Taniguchi,Hidekazu Tanaka
出处
期刊:ACS applied electronic materials [American Chemical Society]
卷期号:3 (11): 5031-5036 被引量:2
标识
DOI:10.1021/acsaelm.1c00803
摘要

The growth of functional oxide thin films on two-dimensional layered materials with van der Waals interactions can open up the possibility of broadening the device applications. In this paper, we report the growth of Fe3O4 (magnetite) thin films on chemically inert and insulating hexagonal boron nitride (hBN) flakes and the characterization of the crystallinity and Verway transition property of the Fe3O4 thin films. We discovered that the Fe3O4 thin film on hBN has grain structures with the energetically favorable [111] orientation on the (001) plane of hBN. The Fe3O4 thin films on hBN exhibit a resistance change owing to a Verway transition at 115 K, and the transition temperature was independent of the Fe3O4 film thickness from 35 to 240 nm. Moreover, we demonstrated the transferability of Fe3O4/hBN stacks onto SiO2/Si substrates using a transparent polymer and revealed that the Verway transition property is maintained in the transferred Fe3O4/hBN stack similarly to as-grown Fe3O4/hBN samples. Our results can open up a way of fabricating transferable devices using Fe3O4 thin films.

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