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Inherently area-selective atomic layer deposition for the fabrication of 2D and 3D nanostructures

制作 原子层沉积 材料科学 纳米结构 纳米技术 图层（电子） 沉积（地质） 光电子学 化学气相沉积 原子力显微镜 薄膜 原子层外延 纳米光刻 逐层
作者
Yu Gu,Kaipeng Liu,Hanhao Wei,Shuai Mou,Yiyin Zhang,Yunfei Luo,Weisheng Yue,Zeyu Zhao,Changtao Wang
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier]
日期：2025-12-25 卷期号：724: 165699-165699
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2025.165699
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