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Inherently area-selective atomic layer deposition for the fabrication of 2D and 3D nanostructures

制作 原子层沉积 钝化 材料科学 纳米结构 纳米技术 基质（水族馆） 图层（电子） 蚀刻（微加工） 沉积（地质） 氟 光电子学 化学工程 碳纤维 反应离子刻蚀 等离子体刻蚀 X射线光电子能谱 化学气相沉积 薄膜 原子层外延 干法蚀刻 硅 选择性 表面改性 纳米光刻
作者
Yu Gu,Kaipeng Liu,Hanhao Wei,Shuai Mou,Yiyin Zhang,Yunfei Luo,Weisheng Yue,Zeyu Zhao,Changtao Wang
出处
期刊：Applied Surface Science [Elsevier BV]
日期：2025-12-25 卷期号：724: 165699-165699
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2025.165699
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