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Inherently area-selective atomic layer deposition for the fabrication of 2D and 3D nanostructures
制作
原子层沉积
钝化
材料科学
纳米结构
纳米技术
基质（水族馆）
图层（电子）
蚀刻（微加工）
沉积（地质）
氟
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等离子体刻蚀
X射线光电子能谱
化学气相沉积
薄膜
原子层外延
干法蚀刻
硅
选择性
表面改性
纳米光刻
作者
Yu Gu,
Kaipeng Liu,
Hanhao Wei,
Shuai Mou,
Yiyin Zhang,
Yunfei Luo,
Weisheng Yue,
Zeyu Zhao,
Changtao Wang
出处
期刊：
Applied Surface Science
[Elsevier BV]
日期：2025-12-25
卷期号：724: 165699-165699
标识
DOI：10.1016/j.apsusc.2025.165699
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