Electrical performance improvement of charge plasma-based junctionless TFET using novel coalescence of SiGe/GaAs and heterogeneous gate dielectric

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作者
Kaushal Kumar,Ajay Kumar,S. C. Sharma
出处
期刊:Applied Physics A [Springer Science+Business Media]
卷期号:129 (1) 被引量:9
标识
DOI:10.1007/s00339-022-06309-y

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