Magnon scattering modulated planar Hall effect in a ferromagnet/topological insulator heterostructure

物理 凝聚态物理 马格农 散射 拓扑绝缘体 磁场 磁化 各向异性 异质结 平面的 铁磁性 量子力学 计算机图形学(图像) 计算机科学
作者
Ze-Jie Weng,Jia-Yan Ba,Yi-Heng Ke,Hou-Jian Duan,Ming-Xun Deng,Rui‐Qiang Wang
出处
期刊:Physical review [American Physical Society]
卷期号:106 (19) 被引量:6
标识
DOI:10.1103/physrevb.106.195134
摘要

We study in-plane magnetotransport for the interface of a ferromagnet insulator (FMI) and a topological insulator (TI), taking into account thermal fluctuation effect of the magnetization in the FMI. It is found that the planar Hall effect (PHE) can display complicated angular dependencies beyond the standard paradigm ${\ensuremath{\sigma}}_{xx}\ensuremath{\sim}({\ensuremath{\sigma}}_{\ensuremath{\parallel}}\ensuremath{-}{\ensuremath{\sigma}}_{\ensuremath{\perp}}){cos}^{2}\ensuremath{\theta}$ and ${\ensuremath{\sigma}}_{xy}=({\ensuremath{\sigma}}_{\ensuremath{\parallel}}\ensuremath{-}{\ensuremath{\sigma}}_{\ensuremath{\perp}})sin\ensuremath{\theta}cos\ensuremath{\theta}$, where ${\ensuremath{\sigma}}_{\ensuremath{\parallel}(\ensuremath{\perp})}$ is the longitudinal conductivity in the direction parallel (vertical) to the magnetic field and $\ensuremath{\theta}$ denotes the relative angle between the applied electric and magnetic fields. The rich structures in angular dependence of the conductivities can arise from the cooperation and competition effect between multiple coexisting mechanisms, e.g., impurity and magnon scattering, band anisotropy, as well as reconstruction of the electronic structure by magnetic fields. Consequently, in addition to the relative angle $\ensuremath{\theta}$, the actual direction of the external fields can be crucial to the PHE, dependent on the specific properties of a material. As a result, the planar Hall conductivity can be nonvanishing even for parallel construction of the applied electric and magnetic fields. Our findings are based on but not limited to the FMI/TI heterostructure, which would be helpful to understand the emergent PHEs in topological materials.
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