Van der Waals Epitaxy and Photoresponse of Hexagonal Tellurium Nanoplates on Flexible Mica Sheets

云母 材料科学 范德瓦尔斯力 外延 纳米技术 六方晶系 异质结 光电子学 图层(电子) 结晶学 化学 复合材料 冶金 分子 有机化学
作者
Qisheng Wang,Muhammad Safdar,Kai Xu,Misbah Mirza,Zhenxing Wang,Jun He
出处
期刊:ACS Nano [American Chemical Society]
卷期号:8 (7): 7497-7505 被引量:324
标识
DOI:10.1021/nn5028104
摘要

Van der Waals epitaxy (vdWE) is of great interest due to its extensive applications in the synthesis of ultrathin two-dimensional (2D) layered materials. However, vdWE of nonlayered functional materials is still not very well documented. Here, although tellurium has a strong tendency to grow into one-dimensional nanoarchitecture due to its chain-like structure, we successfully realize 2D hexagonal tellurium nanoplates on flexible mica sheets via vdWE. Chemically inert mica surface is found to be crucial for the lateral growth of hexagonal tellurium nanoplates since it (1) facilitates the migration of tellurium adatoms along mica surface and (2) allows a large lattice mismatch. Furthermore, 2D tellurium hexagonal nanoplates-based photodetectors are in situ fabricated on flexible mica sheets. Efficient photoresponse is obtained even after bending the device for 100 times, indicating 2D tellurium hexagonal nanoplates-based photodetectors on mica sheets have a great application potential in flexible and wearable optoelectronic devices. We believe the fundamental understanding of vdWE effect on the growth of 2D tellurium hexagonal nanoplate can pave the way toward leveraging vdWE as a useful channel to realize the 2D geometry of other nonlayered materials.
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