Surface evolution and effect of V/III ratio modulation on etch-pit-density improvement of thin AlN templates on nano-patterned sapphire substrates by metalorganic chemical vapor deposition

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作者
Tzu-Yu Wang,Chi-Tsung Tasi,Ku-Yen Lin,Sin-Liang Ou,Ray‐Hua Horng,Dong‐Sing Wuu
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:455: 1123-1130 被引量:25
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2018.06.017
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