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Enhanced dill exposure model for thick photoresist lithography

光刻胶 抵抗 平版印刷术 材料科学 微电子机械系统 光刻 光电子学 光学 纳米技术 图层(电子) 物理
作者
Shijie Liu,Jinglei Du,Xi Duan,Boliang Luo,Xionggui Tang,Yongkang Guo,Zheng Cui,Chunlei Du,Jun Yao
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier]
卷期号:78-79: 490-495 被引量:17
标识
DOI:10.1016/j.mee.2005.01.014

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