Process stability of SiGe heterostructures for BiCMOS applications

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作者
P. Ribot,S. Jouan,J.L. Regolini
出处
期刊:Journal de physique [EDP Sciences]
卷期号:09 (PR8): Pr8-332 被引量:5
标识
DOI:10.1051/jp4:1999840
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