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Surface Zeta Potential of ALD-Grown Metal-Oxide Films

原子层沉积 Zeta电位 润湿 表面电荷 材料科学 氧化物 纳米技术 化学工程 表面能 金属 静电学 多孔性 表面改性 图层(电子) 化学 复合材料 冶金 工程类 物理化学 纳米颗粒 生物化学
作者
Zijing Xia,Vepa Rozyyev,Anil U. Mane,Jeffrey W. Elam,Seth B. Darling
出处
期刊:Langmuir [American Chemical Society]
卷期号:37 (39): 11618-11624 被引量:19
标识
DOI:10.1021/acs.langmuir.1c02028
摘要

Membranes are among the most promising technologies for energy-efficient and highly selective separations, and the surface-charge property of membranes plays a critical role in their broad applications. Atomic layer deposition (ALD) can deposit materials uniformly and with high precision and controllability on arbitrarily complex and large substrates, which renders it a promising method to tune the electrostatics of water/solid interfaces. However, a systematic study of surface-charge properties of ALD-grown films in aqueous environments is still lacking. In this work, 17 ALD-grown metal-oxide films are synthesized, and a comprehensive study of their water stability, wetting properties, and surface-charge properties is provided. This work represents a resource guide for researchers and ultimately for materials and process engineers, seeking to tailor interfacial charge properties of membranes and other porous water treatment components.
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