Influence of thickness on the resistivity and infrared emissivity of TiN films

发射率 材料科学 红外线的 电阻率和电导率 低发射率 复合材料 光学 冶金 涂层 物理 电气工程 工程类
作者
Chunguang Li,Qinggong Jia,Demin Jian
出处
期刊:Journal of Materials Science: Materials in Electronics [Springer Nature]
卷期号:33 (7): 3606-3616
标识
DOI:10.1007/s10854-021-07554-2
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