Novel microwave plasma reactor for diamond synthesis

钻石 微波食品加热 电场 等离子体 材料科学 薄脆饼 计算物理学 原子物理学 光学 化学 物理 光电子学 量子力学 复合材料
作者
M. Füner,C. Wild,P. Koidl
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:72 (10): 1149-1151 被引量:198
标识
DOI:10.1063/1.120997
摘要

Numerical simulations were performed to predict the performance of microwave plasma reactors with various reactor geometries. The simulations include the calculation of the electric field distribution using the finite integration theory and the determination of the plasma density distribution based on a breakdown field algorithm. One reactor geometry with a cavity having the shape of a rotational ellipsoid turned out to be very promising. The electric field within this cavity exhibits two pronounced maxima at the two focal points of the ellipsoid. By coupling microwave energy into one maximum via an antenna, large electric field strengths can be generated in the counter maximum. This effect has been used to excite intense discharges that are very stable, spatially extended, homogeneous, and free from wall contact. These discharges were employed for the chemical vapor deposition of large area diamond wafers.
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