溅射
蚀刻(微加工)
反应离子刻蚀
碳纤维
硅
氩
分析化学(期刊)
氧气
材料科学
化学
无机化学
化学工程
薄膜
纳米技术
光电子学
复合材料
环境化学
有机化学
图层(电子)
复合数
工程类
作者
H. Norström,R. Buchta,F. Runovc,Per Wiklund
出处
期刊:Vacuum
[Elsevier BV]
日期:1982-01-01
卷期号:32 (12): 737-745
被引量:12
标识
DOI:10.1016/0042-207x(82)93846-5
科研通智能强力驱动
Strongly Powered by AbleSci AI