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Investigation of the effect of oxygen partial pressure during reactive sputtering of tantalum oxide resistive random access memory switching layer

材料科学 溅射 钽 分压 氧气 图层（电子） 氧化物 电阻随机存取存储器 电阻式触摸屏 复合材料 光电子学 薄膜 纳米技术 冶金 电极 电气工程 化学 有机化学 物理化学 工程类
作者
Rajas Mathkari,Maximilian Liehr,Pramod Ravindra,Ross Pareis,Karsten Beckmann,Natalya Tokranova,Sandra Schujman,Iqbal Saraf,O. van der Straten,Nanbo Gong,Takashi Ando,Nathaniel C. Cady
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier]
日期：2024-11-04 卷期号：186: 109060-109060 被引量：4
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2024.109060
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