Enhanced EUV mask imaging using Fourier ptychographic microscopy

极紫外光刻 显微镜 光学 材料科学 傅里叶变换 摄影术 光电子学 物理 衍射 量子力学
作者
Chaoying Gu,Antoine Islegen-Wojdyla,Markus P. Benk,Kenneth A. Goldberg,Laura Waller
标识
DOI:10.1117/12.3051223

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