Microstructure and mechanical properties of physical vapor deposited Cu/W nanoscale multilayers: Influence of layer thickness and temperature

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作者
M.A. Monclús,Miroslav Karlı́k,M. Callisti,E. Frutos,Javier LLorca,Tomáš Polcar,J.M. Molina-Aldareguía
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:571: 275-282 被引量:66
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2014.05.044

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