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Large Scale Growth and Characterization of Atomic Hexagonal Boron Nitride Layers

材料科学 石墨烯 纳米压痕 化学气相沉积 电介质 氮化硼 带隙 单层 石墨 基质(水族馆) 纳米技术 原子单位 表征(材料科学) 氮化物 光电子学 复合材料 图层(电子) 量子力学 海洋学 物理 地质学
作者
Li Song,Lijie Ci,Hao Lü,Павел Б. Сорокин,Chuanhong Jin,Jie Ni,Alexander G. Kvashnin,Dmitry G. Kvashnin,Jun Lou,Boris I. Yakobson,Pulickel M. Ajayan
出处
期刊:Nano Letters [American Chemical Society]
卷期号:10 (8): 3209-3215 被引量:2633
标识
DOI:10.1021/nl1022139
摘要

Hexagonal boron nitride (h-BN), a layered material similar to graphite, is a promising dielectric. Monolayer h-BN, so-called "white graphene", has been isolated from bulk BN and could be useful as a complementary two-dimensional dielectric substrate for graphene electronics. Here we report the large area synthesis of h-BN films consisting of two to five atomic layers, using chemical vapor deposition. These atomic films show a large optical energy band gap of 5.5 eV and are highly transparent over a broad wavelength range. The mechanical properties of the h-BN films, measured by nanoindentation, show 2D elastic modulus in the range of 200-500 N/m, which is corroborated by corresponding theoretical calculations.
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