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Corrosion Inhibition Effects of Corrosion Products on High-purity Mg and AZ91D under Thin Electrolyte Layers

腐蚀 钝化 电解质 溶解 材料科学 氢氧化物 金属 金属氢氧化物 冶金 无机化学 薄膜 化学工程 图层(电子) 化学 电极 复合材料 纳米技术 物理化学 工程类
作者
Ningning Dan,Yao Yang,Tao Ying,Xiaoqin Zeng
出处
期刊:Journal of The Electrochemical Society [Institute of Physics]
卷期号:169 (9): 091502-091502 被引量:5
标识
DOI:10.1149/1945-7111/ac9353
摘要

In this work, the effects of deposited corrosion products on corrosion rates and pseudo-passivation behavior of high-purity (HP) Mg and AZ91D under thin electrolyte layers (TEL) and in a bulk solution were investigated. Low corrosion rates and pseudo-passive behavior can be maintained over time under TEL, especially under extremely thin electrolytes (100 μ m and 200 μ m TEL). Pseudo-passivation behavior of HP Mg under TEL is caused by the corrosion product films formed on the metal surface. The deposited corrosion products on HP Mg and AZ91D are composed of metal hydroxides, oxides and carbonates. Moreover, the pH of the TEL is lower than that in bulk solution. This might contribute to the dissolution of Mg hydroxide in the corrosion products.
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