Formation by PECVD of very thin silicon oxynitride [SIOxNy] layers technology and characterisation

氮化硅 等离子体增强化学气相沉积 材料科学 光电子学 工程物理 氮化硅 物理
作者
Romuald B. Beck,M. Cuch,A. Wojtkiewicz,A. Kudła,A. Jakubowski
出处
期刊:Acta Agrophysica [Institute of Agrophysics Polish Academy of Sciences]
卷期号:80
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