Electrical Characteristics of Ambipolar Thin Film Transistor Depending on Gate Insulators

双极扩散 材料科学 光电子学 晶体管 薄膜晶体管 纳米技术 工程物理 电气工程 工程类 等离子体 电压 物理 图层(电子) 量子力学
作者
Teresa Oh
出处
期刊:Han-gukjeongbotongsinhakoenonmunji [The Korean Institute of Information and Communication Sciences]
卷期号:18 (5): 1149-1154
标识
DOI:10.6109/jkiice.2014.18.5.1149
摘要

본 연구는 산화물반도체트랜지스터의 터널링 현상을 살펴보기 위해서 게이트 절연막으로서 SiOC 박막을 사용하고 채널층으로 IGZO를 이용하여 트랜지스터를 제작 하였다. SiOC 박막은 분극이 작아질수록 비정질특성이 우수해지면서 절연특성이 좋아진다. SiOC 게이트 절연막과 채널 층 사이의 계면에 존재하는 접합특성은 SiOC의 분극특성에 따라서 달려졌다. 드레인소스 전류(IDS)와 게이트소스 전압(VGS)의 전달특성은 분극이 낮은 SiOC를 사용할 경우 양방향성 전달특성이 나타나고 분극이 높은 SiOC 게이트 절연막을 사용할 경우 단방향성 전달 특성이 나타났다. 터널링에 의한 양방향성 트랜지스터의 경우 바이어스 인가 전압이 낮은 ±1V의 영역에서 쇼키접합을 나타냈었지만 트래핑효과에 의한 단방향성 트랜지스터의 경우 오믹접합 특성을 나타내었다. 특히 양방향성 트랜지스터의 경우 터널링 현상에 의하여 on/off 스위칭 특성이 개선되었다.
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