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作者
Patrick Mountapmbeme Kouotou,Zhen‐Yu Tian,Udo Mundloch,Naoufal Bahlawane,Katharina Kohse‐Höinghaus
出处
期刊：RSC Advances
[Royal Society of Chemistry]
日期：2012-01-01
卷期号：2 (29): 10809-10809
被引量：36
摘要
Cobalt(III) acetylacetonate (Co(acac)3) was used as a precursor to grow pure Co3O4 with pulsed-spray evaporation chemical vapor deposition (PSE-CVD). The effect of solvent and substrate temperature on the growth kinetics and morphology of the films was investigated. The obtained spinel exhibited good catalytic performance.
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