Optimization of deposition uniformity during silicon epitaxy in deep trenches

外延 沉积(地质) 光电子学 材料科学 纳米技术 地质学 沉积物 古生物学 图层(电子)
作者
A.S. Segal,E.V. Yakovlev,D. Bazarevskiy,Р.А. Талалаев,H. Ziad,Jelle Genne,G.E.J. Koops,Johan Meersman,F. De Pestel,M. Tack
出处
期刊:Semiconductor Science and Technology [IOP Publishing]
卷期号:34 (2): 024001-024001 被引量:2
标识
DOI:10.1088/1361-6641/aaf4eb
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