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Growth mechanism of AlN on hexagonal BN/sapphire substrate by metal–organic chemical vapor deposition

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作者
Qingqing Wu,Jianchang Yan,Liang Zhang,Xiang Chen,Tongbo Wei,Yang Li,Zhiqiang Liu,Xuecheng Wei,Yun Zhang,Junxi Wang,Jinmin Li
出处
期刊：CrystEngComm [Royal Society of Chemistry]
日期：2017-01-01 卷期号：19 (39): 5849-5856 被引量：36
标识
DOI：10.1039/c7ce01064h
摘要
The growth mechanism and dislocation behavior of AlN on monolayer hBN materials without/with O2plasma treatment by MOCVD.
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