Total Ionizing Dose Response of a 22-nm Compiled Fully Depleted Silicon-on-Insulator Static Random Access Memory

静态随机存取存储器 绝缘体上的硅 吸收剂量 随机存取存储器 电压 光电子学 材料科学 阈值电压 物理 电离辐射 电气工程 电子工程 计算机科学 辐照 晶体管 工程类 计算机硬件 核物理学
作者
Lawrence T. Clark,William E Brown,Keith E. Holbert,A. Rao,Phaneendra Bikkina,Marek Turowski,Andrew Levy,T. Olvarez,Jim D. Butler,Clifford YoungSciortino,S. M. Guertin
出处
期刊:IEEE Transactions on Nuclear Science [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:70 (8): 2034-2041 被引量:1
标识
DOI:10.1109/tns.2023.3244106
摘要

The results of total ionizing dose (TID) experiments on fully depleted silicon-on-insulator (FDSOI) static random access memory (SRAM) are presented. Using 60Co gamma irradiation, tests were conducted at multiple voltages and with and without read and write assists. The results demonstrate cell stability past 200 krad(Si) TID in standard operational modes. The impact of read and write assists and read timing via margin mode tests are examined. We also report input–output (IO)-level translation circuit failures, as well as anomalous circuit failures attributable to IO at relatively low TID dose. Finally, we show post-TID anneal and low-voltage SRAM results.
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