Effect of cap layer and post growth on-site hydride passivation on the surface and interface quality of InAsP/InP hetero and QW structures

钝化 材料科学 氢化物 图层(电子) 接口(物质) 光电子学 质量(理念) 复合材料 冶金 金属 毛细管数 认识论 哲学 毛细管作用
作者
Geetanjali Vashisht,Rijul Roychowdhury,Ravi Kumar,S. Porwal,A. Bose,T. K. Sharma,V. K. Dixit
出处
期刊:Surfaces and Interfaces [Elsevier BV]
卷期号:53: 105087-105087 被引量:2
标识
DOI:10.1016/j.surfin.2024.105087
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