Numerical Simulation of Cryogenic Etching: Model with Delayed Desorption

蚀刻(微加工) 材料科学 钝化 沟槽 等离子体 等离子体刻蚀 解吸 反应离子刻蚀 复合材料 光电子学 物理化学 化学 物理 图层(电子) 吸附 量子力学
作者
M. Rudenko,A. V. Myakon’kikh,В. Ф. Лукичев
出处
期刊:Russian Microelectronics [Springer Nature]
卷期号:50 (1): 54-62 被引量:3
标识
DOI:10.1134/s106373972101008x
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