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DC and Analog/RF Performance Evaluation Using Dual Metal Gate Work Function Engineering of Junctionless Cylindrical Gate All Around Si Nanowire MOSFET Using NEGF Approach for Upcoming Sub 5 nm Technology Node
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作者
Sanjay,
Vibhor Kumar,
Anil Vohra
出处
期刊:
International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
[Springer Science+Business Media]
日期:2024-05-31
卷期号:25 (9): 1885-1897
被引量:3
标识
DOI:10.1007/s12541-024-01023-6
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