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Thermal atomic layer deposition-processed InHfZnO thin film transistors with excellent stability

原子层沉积 材料科学 图层（电子） 热稳定性 沉积（地质） 薄膜晶体管 逐层 薄膜 原子层外延 光电子学 纳米技术 化学工程 地质学 工程类 古生物学 沉积物
作者
Hongzhu Chen,Jun Yang,Kun Bai,Luoqiang Wang,Wenjian Qiao,Xingwei Ding,Jianhua Zhang
出处
期刊：Vacuum [Elsevier]
日期：2024-10-11 卷期号：230: 113726-113726 被引量：2
标识
DOI：10.1016/j.vacuum.2024.113726
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