Investigations on the Influence of Subsequent Electron Beam (EB) Remelting on the Microstructure of an Aluminium Nitride Layer Formed on an Aluminium Substrate (Part II)

渗氮 材料科学 氮化物 氮化铝 图层(电子) 微观结构 基质(水族馆) 冶金 透射电子显微镜 复合材料 纳米技术 海洋学 地质学
作者
Anja Buchwalder,Jan Böcker,Eugen Hegelmann,Anne Jung,Martin Michler,V. Klemm
出处
期刊:Coatings [MDPI AG]
卷期号:12 (5): 650-650 被引量:1
标识
DOI:10.3390/coatings12050650
摘要

Nitriding of Al alloys leads to the formation of a thin, hard nitride layer (AlN) on the surface. A subsequent EBR can both eliminate the nitriding-related cavities under the nitride layer and increase the hardness of the substrate without melting or destroying the nitride layer. This paper deals with investigations regarding the influence of the energy/heat input on the microstructure within both the AlN layer and the remelted Al substrate. Of particular interest was the interface between the AlN and the Al substrate, which changed to a transition zone with a depth of approximately 80 µm. A range of high-resolution imaging and analytical tools for both scanning and transmission electron microscopy were used for these investigations. Based on the findings from the microstructural investigations, a schematic model was developed of the processes occurring within the nitride layer and at the interface as a result of remelting.
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