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X-Ray Diffraction Analysis of Diffusion in Thin Films

材料科学 扩散 衍射 X射线 光学 热力学 物理
作者
Masanori Murakami,Armin Segmüller,K. N. Tu
出处
期刊：Treatise on materials science and technology 日期：1988-01-01 卷期号：: 201-248 被引量：2
标识
DOI：10.1016/b978-0-12-341827-2.50011-x
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