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Spin injection into silicon detected by broadband ferromagnetic resonance spectroscopy

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作者
Ryo Ohshima,Stefan Klingler,Sergey Dushenko,Yuichiro Ando,Mathias Weiler,Hans Huebl,Teruya Shinjo,Sebastian T. B. Goennenwein,Masashi Shiraishi
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:110 (18) 被引量:14
标识
DOI:10.1063/1.4983012
摘要

We studied the spin injection in a NiFe(Py)/Si system using broadband ferromagnetic resonance spectroscopy. The Gilbert damping parameter of the Py layer on top of the Si channel was determined as a function of the Si doping concentration and Py layer thickness. For a fixed Py thickness, we observed an increase in the Gilbert damping parameter with decreasing resistivity of the Si channel. For a fixed Si doping concentration, we measured an increasing Gilbert damping parameter for decreasing Py layer thickness. No increase in the Gilbert damping parameter was found for Py/Si samples with an insulating interlayer. We attribute our observations to an enhanced spin injection into the low-resistivity Si by spin pumping.
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