Analysis of reliability characteristics of high capacitance density MIM capacitors with SiO2–HfO2–SiO2 dielectrics

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作者
Sang-Uk Park,Chang-Yong Kang,Hyuk-Min Kwon,Byung-Seok Park,Won‐Ho Choi,In‐Shik Han,G. Bersuker,Raj Jammy,Hi‐Deok Lee
出处
期刊:Microelectronic Engineering [Elsevier]
卷期号:88 (12): 3389-3392 被引量:18
标识
DOI:10.1016/j.mee.2010.01.012
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