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Remarkable quality improvement of as-grown monolayer MoS2 by sulfur vapor pretreatment of SiO2/Si substrates

单层 硫黄 材料科学 化学气相沉积 化学工程 纳米技术 光电子学 冶金 工程类
作者
Peng Yang,Yabing Shan,Jing Chen,Garel Ekoya,Jinkun Han,Zhijun Qiu,Jian Sun,Fei Chen,Haomin Wang,Wenzhong Bao,Laigui Hu,Rongjun Zhang,Ran Liu,Chunxiao Cong
出处
期刊：Nanoscale [Royal Society of Chemistry]
日期：2020-01-01 卷期号：12 (3): 1958-1966 被引量：9
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/c9nr09129g
摘要
High quality monolayer MoS2 with greatly improved optical and electrical performances can be directly grown by pretreating the growth SiO2/Si substrates with sulfur vapor.
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