Low-Temperature Activation of the Ion-Implanted Dopants in 4H-SiC by Excimer Laser Annealing

材料科学 退火(玻璃) 掺杂剂 准分子激光器 掺杂剂活化 离子 准分子 光电子学 兴奋剂 分析化学(期刊) 激光器 复合材料 光学 化学 物理 量子力学 色谱法
作者
Yasunori Tanaka,H. Tanoue,Kazuo Arai
出处
期刊:Materials Science Forum 卷期号:389-393: 799-802 被引量:5
标识
DOI:10.4028/www.scientific.net/msf.389-393.799

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