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作者
David G. Fischer,Stefan Sinzinger
标识
DOI:10.1364/dh.2020.hth3h.6
摘要
For maskless wide field microlithography on nonplanar surfaces we de scribe the extension of a maskless holographic SLM-based lithography system by a surface measurement method. A phase-only LCoS-SLM is used for projection of patterns and a camera to determine the surface orientation from the defocused patterns.
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