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Engineering HZO by Flat Amorphous TiN with 0.3nm Roughness Achieving Uniform c-Axis Alignment, Record High Breakdown Field (~10nm HZO), and Record Final 2Pr of 56 μC/cm2 with Endurance > 4E12

锡 表面光洁度 表面粗糙度 无定形固体 材料科学 领域（数学） 光电子学 光学 物理 化学 结晶学 复合材料 冶金 数学 纯数学
作者
Zefu Zhao,Yu-Rui Chen,Yu-Tsung Liao,Yun-Wen Chen,Wan-Hsuan Hsieh,Jer-Fu Wang,Yu-An Chen,Hao-Yi Lu,Wei-Teng Hsu,Dai-Ying Lee,Ming-Hsiu Lee,C. W. Liu
标识
DOI：10.1109/vlsitechnologyandcir46783.2024.10631450
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