Effects of different atomic passivation on conductive and dielectric properties of silicon carbide nanowires

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作者
Yun Ma,Han Yan,Xiao-Xia Yu,Pei Gong,Yalin Li,Wan-Duo Ma,Xiao‐Yong Fang
出处
期刊:Journal of Applied Physics [American Institute of Physics]
卷期号:135 (5) 被引量:43
标识
DOI:10.1063/5.0187116
摘要

Based on the transport and polarization relaxation theories, the effects of hydrogen, fluorine, and chlorine atom passivation on the conductivity and dielectric properties of silicon carbide nanowires (SiCNWs) were numerically simulated. The results show that passivation can decrease the dark conductivity of SiCNWs and increase its ultraviolet photoconductivity. Among them, the photoconductivity of univalent (H) passivated SiCNWs is better than that of seven-valent (Cl, F) passivated SiCNWs. In terms of dielectric properties, the passivated SiCNWs exhibit a strong dielectric response in both deep ultraviolet and microwave regions. Hydrogen passivation SiCNWs produce the strongest dielectric response in deep ultraviolet, while fluorine passivation SiCNWs produce the strongest dielectric relaxation in the microwave band, which indicates that atomic passivation SiCNWs have a wide range of applications in ultraviolet optoelectronic devices and microwave absorption and shielding.
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