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Thermodynamic Calculations of ZrC‐SiC System for Chemical Vapor Deposition Applications from SiCl 4 ‐ZrCl 4 ‐CH 4 ‐H 2

材料科学 化学气相沉积 物理化学 无机化学 纳米技术 化学
作者
Qiaomu Liu,Litong Zhang,Yiguang Wang,Laifei Cheng
出处
期刊：Ceramic transactions 日期：2010-06-28 卷期号：: 65-75
标识
DOI：10.1002/9780470909836.ch6
摘要
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