InGaAs quantum dot chains grown by twofold selective area molecular beam epitaxy

分子束外延 材料科学 量子点 光电子学 化学束外延 外延 纳米技术 图层(电子)
作者
Clément Barbot,Claire Rondeau-Body,Christophe Coinon,Yves Deblock,Pascal Tilmant,F. Vaurette,Dmitri Yarekha,Maxime Berthe,Louis Thomas,H. Diesinger,Pierre Capiod,L. Desplanque,B. Grandidier
出处
期刊:Nanotechnology [IOP Publishing]
卷期号:35 (39): 395302-395302 被引量:1
标识
DOI:10.1088/1361-6528/ad5f34
摘要

Increasing quantum confinement in semiconductor quantum dot (QD) systems is essential to perform robust simulations of many-body physics. By combining molecular beam epitaxy and lithographic techniques, we developed an approach consisting of a twofold selective area growth to build QD chains. Starting from 15 nm-thick and 65 nm-wide in-plane In

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