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Fabrication of Electrospun Porous TiO2 Dielectric Film in a Ti–TiO2–Si Heterostructure for Metal–Insulator–Semiconductor Capacitors

材料科学 电容器 制作 电介质 异质结 半导体 绝缘体（电） 多孔性 光电子学 复合材料 电气工程 电压 工程类 医学 病理 替代医学
作者
JinUk Yoo,Tae-Min Choi,Sung Gyu Pyo
出处
期刊：Micromachines [Multidisciplinary Digital Publishing Institute]
日期：2024-09-30 卷期号：15 (10): 1231-1231 被引量：1
链接
doi.org nih.govdoi.org
标识
DOI：10.3390/mi15101231
摘要
The development of metal-insulator-semiconductor (MIS) capacitors requires device miniaturization and excellent electrical properties. Traditional SiO
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