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Characteristics and behaviors analysis of etch pits in 4H-SiC epilayers by molten KOH etching
蚀刻（微加工）
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作者
Xiyao Huang,
Mingsheng Xu,
Ling Guo,
Shuqiang Li,
Xinyue Hou,
Yong‐Qing Qiu,
Jisheng Han,
Xiangang Xu
出处
期刊：
Vacuum
[Elsevier BV]
日期：2025-09-10
卷期号：242: 114730-114730
被引量：2
标识
DOI：10.1016/j.vacuum.2025.114730
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