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Simulation of crack propagation in solder layer of IGBT device under temperature shock by viscoplastic phase field method

材料科学 粘塑性 焊接 热冲击 绝缘栅双极晶体管 断裂力学 复合材料 休克(循环) 图层(电子) 相(物质) 结构工程 有限元法 电气工程 本构方程 工程类 电压 内科学 有机化学 化学 医学
作者
Kai Yang,Longzao Zhou,Fengshun Wu,Guang Yang,Liguo Ding,Kewei Li,Xuemin Li
出处
期刊:Engineering Fracture Mechanics [Elsevier BV]
卷期号:284: 109260-109260 被引量:9
标识
DOI:10.1016/j.engfracmech.2023.109260
摘要

Insulated Gate Bipolar Transistor (IGBT) is a key device in power system. During its service, due to the mismatch of thermal expansion coefficients, cracking of the solder layer may result in reliability concerns. However, the thickness of the solder layer is generally only tens of microns, so it is challenging to study the dynamic crack propagation in the solder layer. In this study, the viscoplastic phase field method is combined with the Anand viscoplastic model commonly used in solder alloys to simulate the dynamic fracture of the IGBT solder layer during temperature shock test (TST). The simulation results are compared with the experimental results and the results are very close. In this paper, the effect of solder voids and solder inclination on crack propagation is studied by using phase field method. It is found that the presence of voids promotes crack propagation, and the crack propagation rate is faster on the thin side when the solder is tilted.
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