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The growth mechanism and supercapacitor study of anodically deposited amorphous ruthenium oxide films

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作者
V. D. Patake,S.M. Pawar,V.R. Shinde,T.P. Gujar,C.D. Lokhande
出处
期刊：Current Applied Physics [Elsevier BV]
日期：2009-05-19 卷期号：10 (1): 99-103 被引量：42
标识
DOI：10.1016/j.cap.2009.05.003
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