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Dopant-dependence of one-step metal-induced dopant activation process in silicon

作者
Jin‐Hong Park,Woo‐Shik Jung,Hyun‐Yong Yu
出处
期刊：Current Applied Physics [Elsevier BV]
日期：2012-01-11 卷期号：12 (3): 995-997 被引量：2
标识
DOI：10.1016/j.cap.2012.01.002
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