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A Model for the Electrochemical Deposition and Removal of Metallic Impurities on Si Surfaces

杂质沉积（地质）电化学材料科学金属化学工程冶金纳米技术电极化学工程类地质学物理化学有机化学沉积物古生物学

作者

Hitoshi Morinaga,Makoto Suyama,Masashi Nose,Steven Verhaverbeke,Tadahiro Ohmi

出处

期刊：IEICE Transactions on Electronics [Institute of Electronics, Information and Communication Engineers]
日期：1996-03-25 卷期号： (3): 343-362 被引量：7

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