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Improved electrical contact property of Si-doped GaN thin films deposited by PEALD with various growth cycle ratio of SiNx and GaN

材料科学 欧姆接触 光电子学 原子层沉积 兴奋剂 掺杂剂 氮化镓 退火（玻璃） 接触电阻 氮化物 薄膜 氮化硅 硅 图层（电子） 纳米技术 复合材料
作者
Zhi-Xuan Zhang,Shi-Cong Jiang,Wan-Yu Wu,Peng Gao,Linqin Jiang,Yu Qiu,Dong‐Sing Wuu,Feng‐Min Lai,Shui‐Yang Lien,Wen‐Zhang Zhu
出处
期刊：Surfaces and Interfaces [Elsevier]
日期：2023-08-15 卷期号：41: 103295-103295 被引量：4
标识
DOI：10.1016/j.surfin.2023.103295
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