制作
灵敏度(控制系统)
材料科学
蚀刻(微加工)
光学
光电子学
镜头(地质)
纳米技术
电子工程
物理
工程类
医学
病理
替代医学
图层(电子)
作者
Lieven Penninck,Wouter Woestenborghs
出处
期刊:
日期:2021-01-01
卷期号:: FTu4A.4-FTu4A.4
标识
DOI:10.1364/flatoptics.2021.ftu4a.4
摘要
We analyze the sensitivity of mid IR metalenses to fabrication imperfections. We simulate the sensitivity of lens performance to imperfections in the fabrication of meta-atoms such as over/under etching, structure dimensions, and film thickness.
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